和田正昭(写真工学研究家)

担当学科
写真芸術第一学科1年・写真芸術第一学科BASIC1年・写真芸術第二学科1年
担当科目
『基礎写真工学』

1948年生まれ。’68年近畿大学工学部修了。’72年本学写真芸術科卒業。’72年より(株)杉浦研究所に勤務。感光材料及びカメラ工学の研究を継続。同時にカメラ雑誌などに執筆。’77年より講師として『基礎写真工学』を担当。